Termiyonik Vakum Ark (Tva) Tekniği Kullanarak Bor Karbür (B4c) İnce Filmlerinin Oluşturulması ve Bazı Fiziksel Özelliklerinin İncelenmesi

Abstract

Bu çalışma kapsamında, saf materyal plazması üreten bir teknik olan Termiyonik Vakum Ark (TVA) tekniği kullanılarak erime sıcaklığı oldukça yüksek ve sert bir malzeme olarak bilinen bor karbür (B4C) bileşiğinin plazmasını üreterek, ilk defa cam taban üzerine ince film oluşturulmuştur. Oluşturulan bu ince filmlerin bazı fiziksel özelliklerinin incelenmiştir.

İnce filmlerin yüzey özellikleri taramalı elektron mikroskobu (SEM), enerji dağınım (dispersive) spektrometresi (EDS) ve atomik kuvvet mikroskobu (AFM) cihazları ile incelenmiştir. Yarıiletken filmlerin kristal yapılarını incelerken X-Işını kırınım cihazı (XRD) kullanılmıştır. Üretilen ince filmlerin optik özelliklerini ise spektroskopikelipsometre (SE) ve Uv-Visspektrofotometri cihazı kullanılarak incelenmiştir.